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標(biāo)準(zhǔn)化性能：

·絕緣體分析

·高性能XPS性能

·深度剖析

·多技術(shù)聯(lián)合

·雙模式離子源，使深度剖析功能得到擴(kuò)展

·用于 ARXPS 測(cè)量的傾斜模塊

·用于儀器控制、數(shù)據(jù)處理和報(bào)告生產(chǎn)的 Avantage 軟件

·小束斑分析

可選的升級(jí)：可將多種分析技術(shù)集成到您的檢測(cè)分析中。式自動(dòng)運(yùn)行

·ISS：離子散射譜，分析材料表面1-2原子層元素信息，通過(guò)質(zhì)量分辨可分析一些同位素豐度信息。

·UPS：紫外光電子能譜用于分析金屬/半導(dǎo)體材料的價(jià)帶能級(jí)結(jié)構(gòu)信息以及材料表面功函數(shù)信息

·拉曼：拉曼光譜技術(shù)用于提供分子結(jié)構(gòu)層面的指紋信息

·REELS：反射電子能量損失譜可用于H元素含量的檢測(cè)以及材料能級(jí)結(jié)構(gòu)和帶隙信息