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低檢出限 

QJet離子導入技術可以獲得低的檢出限，集合QJet離子導入技術、TURBO VTM離子源、和新一代Analyst軟件，使其成為適合開發(fā)每階段的經用、高通量的分析平臺

除交叉污染 

QJet離子導入技術，通過捕獲和聚焦多由TURBO V離子源產生的離子，大幅提了敏度。即使對于高濃度樣品，TURBO V離子源也可除交叉污染。

選項提通量 

可選的DuoSpray離子源是快方法開發(fā)和提通量的理想工具，該離子源有TurboIonSpray離子源和APCI兩種接口，對于液相運行中的每個化合物，都可用計算機控制來優(yōu)化離子化參數。另一個可選件是大氣壓光電離PhotoSpray源，

加了分析的可能性。

無人值守的高通量操作

API 5000系統(tǒng)傳承了AB SCIEX經用、靠譜的三重四極桿技術，自動化特性使其在法規(guī)高通量實驗室能夠連續(xù)的高負荷工作。

即使您剛接觸質譜，API 5000系統(tǒng)也可使您輕得到您想要的答案。從自動方法開發(fā)到快、簡單的常規(guī)維護，API 5000系統(tǒng)是易用的三重四極桿。

可選的DuoSpray離子源--快方法開發(fā)和增加分析通量

可選的PhotoSpray 離子源--擴展了儀器的應用領域